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集成的光信号想要实现多种功能，都离不开基本光学元件的小型化，例如波导、分路器、光栅和光开关。这也意味着需要一种能实现高分辨率制造的方法。
目前已存在几种用于亚波长高分辨率制造的技术，例如直接激光写入、多光子光刻、电子束光刻、离子束光刻和多米诺骨牌光刻，然而，这些技术均成本高昂、复杂且耗时。纳米压印光刻虽然非常适合高分辨率与高效制，但是它同时也需要高质量的“母机”。
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